Epson apoya a chilena en el New York Fasion Week 2017

Daniela Hoehmann, diseñadora y fundadora de la marca “Roberta” es quien representará a Chile en el “Epson Digital Couture ProjectNew York Fashion Week 2017”, que se realizará durante la semana de la moda de Nueva York.  

En su tercera versión, el Epson Digital Couture Project reúne a más de 12 diseñadores latinoamericanos, importantes empresas de la industria textil, prensa internacional y celebridades, y tiene como objetivo acercar la técnica de la sublimación al mundo de la moda a través de las creaciones de estos diseñadores y poniendo la tecnología Epson al servicio de la moda.

La representante de Chile fue seleccionada entre un grupo de destacados diseñadores nacionales, quienes compitieron por un cupo para mostrar sus diseños en las pasarelas de Nueva York.

Daniela no es nueva en el mundo de la moda. Desde el 2011 presenta sus colecciones con especial interés en la gráfica textil en tejido y/o  en estampado sobre tela.



Sobre el viaje y la oportunidad de poder participar en este gran evento donde el mundo de la moda y la tecnología se unen, Daniela destacó la importancia de la técnica de la sublimación en su trabajo, además del mundo que se le abrirá con esta posibilidad: “Es una oportunidad muy importante. Primero, por el tema de la sublimación. He trabajado muchos años con esta técnica por lo que me abrirá todo un mundo, podré conocer gente que sabe del tema y trabajar con telas y equipos de la mejor calidad. Lo segundo, es ir a Nueva York, que no conozco, y vivir la experiencia del Epson Digital Couture Project. También que vean mis trabajos, compartir con otros diseñadores de otros países… Me abre el mundo”, sostuvo.

Ahora la misión de Daniela Hoehmann consiste en desarrollar una minicolección de 4 tenidas de temporada Otoño-Invierno, para ser expuestas en este gran evento que se realizará la segunda semana de febrero de 2017.  Los diseños serán impresos en la nueva SureColor Serie F de Epson, un equipo de alta flexibilidad y cuyo mayor provecho dependerá de las capacidades creativas de la diseñadora.

En la versión anterior, el diseñador Matías Hernán fue quien representó a Chile con tenidas muy innovadoras y creativas y donde el uso de distintas materialidades sublimadas hizo que su colección destacara en el evento